Diseño de nuevos cabezales de deposición espacial de capa atómica

DirectorIzquierdo Estallo, Salvador
Titulaciones
Máster Universitario en Ingeniería Electrónica
Máster Universitario en Ingeniería Industrial
Máster Universitario en Ingeniería Mecánica
Máster Universitario en Ingeniería Química
Duracion5-7 meses
LugarOnline / Área de Mecánica de Fluidos
Fecha Alta2023-05-18
Fecha Baja2024-05-18
ResumenMOTIVACIÓN. La deposición espacial de capa atómica (SALD) es una técnica de fabricación en el ámbito de la nanotecnología con potencial para desplegarse a escala industrial, ya que ofrece un alto rendimiento a presión atmosférica siendo considerablemente más rápido que otras técnicas convencionales. Resulta especialmente atractiva para la fabricación de componentes en los que se tiene que cubrir grandes superficies a bajo coste, destacando: las células solares, las membranas o las baterías. OBJETIVO: Desarrollar un modelo de simulación mediante técnicas de fluidodinámica computacional (CFD - Computational Fluid Dynamics) que prediga de forma cuantitativa el rendimiento de deposición de capas atómicas de equipos de laboratorio. Esto permitirá en un futuro, diseñar procesos SALD a escala industrial. El modelo incluirá la descripción del flujo (continuo y rarificado), la transferencia de calor y los procesos de adsorción, considerando geometrías 3D y el proceso de avance de superficie de trabajo. METODOLOGÍA: Se empleará un software comercial de CFD (ANSYS-Fluent) para construir el modelo y realizar las simulaciones. Se dispondrá de geometrías de cabezales SALD previamente elaboradas.
Detalles/Contactosalvador.izquierdo@unizar.es
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