Diseño de nuevos cabezales de deposición espacial de capa atómica
Director | Izquierdo Estallo, Salvador |
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Titulaciones | |
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Máster Universitario en Ingeniería Electrónica Máster Universitario en Ingeniería Industrial Máster Universitario en Ingeniería Mecánica Máster Universitario en Ingeniería Química |
Duracion | 5-7 meses |
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Lugar | Online / Área de Mecánica de Fluidos |
Fecha Alta | 2023-05-18 |
Fecha Baja | 2024-05-18 |
Resumen | MOTIVACIÓN. La deposición espacial de capa atómica (SALD) es una técnica de fabricación en el ámbito de la nanotecnología con potencial para desplegarse a escala industrial, ya que ofrece un alto rendimiento a presión atmosférica siendo considerablemente más rápido que otras técnicas convencionales. Resulta especialmente atractiva para la fabricación de componentes en los que se tiene que cubrir grandes superficies a bajo coste, destacando: las células solares, las membranas o las baterías. OBJETIVO: Desarrollar un modelo de simulación mediante técnicas de fluidodinámica computacional (CFD - Computational Fluid Dynamics) que prediga de forma cuantitativa el rendimiento de deposición de capas atómicas de equipos de laboratorio. Esto permitirá en un futuro, diseñar procesos SALD a escala industrial. El modelo incluirá la descripción del flujo (continuo y rarificado), la transferencia de calor y los procesos de adsorción, considerando geometrías 3D y el proceso de avance de superficie de trabajo. METODOLOGÍA: Se empleará un software comercial de CFD (ANSYS-Fluent) para construir el modelo y realizar las simulaciones. Se dispondrá de geometrías de cabezales SALD previamente elaboradas. |
Detalles/Contacto | salvador.izquierdo@unizar.es |